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新机器在光刻技术中提升了国家的形象

[2018-11-30 09:54:34] 来源: 编辑: 点击量:
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导读:   “让它变小”一直是推动微电子技术从晶体管到处理器的重大发展的口头禅。因此,高科技公司的竞争力取决于能否可靠

   “让它变小”一直是推动微电子技术从晶体管到处理器的重大发展的口头禅。因此,高科技公司的竞争力取决于能否可靠地创建纳米级或十亿分之一米的组件。

  微工程的核心是光刻,这是用于在半导体芯片上创建电路图案的关键技术之一。这使得工程师可以利用光线将具有数百万个元件的复杂电路打包并复制到非常小的空间中。

  这项技术非常先进,只有少数来自欧洲和日本的公司才能生产出具备这种技能的机器。但最近,中国进入了比赛。

  中国科学院光学与电子研究所周四宣布,它已开发出自己的光刻机,从而克服了限制中国芯片,纳米组件和光学仪器发展的主要工程障碍之一。

  科学家于2012年开始建造的新机器可以使用紫外线蚀刻小于22纳米的电路图案。结合其他技术,它可以在未来用于创建大约10纳米的芯片。

  “该机器在制造通用芯片和其他需要微工程的材料方面具有重要价值,包括一些集成电路,”该项目副总设计师胡松表示。

  Hu说,该机器还可用于制造传感器,探测器和生物芯片等应用的小型元件。

  它已被包括四川大学和中国电子科技大学在内的多家机构所采用。

  然而,新机器的生产能力仍然很小,因此它仍然仅限于生产研究的关键部件,胡说。

  在未来几年,该团队将致力于将机器的生产率提高到工业规模。胡锦涛表示,中国与发达国家在微型工程领域仍存在巨大差距,但中国正在迅速赶上。

  他说,能够生产光刻技术的公司在生产微电子产品方面具有压倒性的优势。据该公司的情况说明书称,芯片制造巨头英特尔声称它每秒可生产超过50亿个纳米级晶体管。

  世界上最大的光刻供应商是一家名为ASML Holding的荷兰公司。ASML的一些主要竞争对手是佳能和尼康。

  自20世纪90年代末以来,中国一直无法从发达国家进口尖端光刻技术和其他芯片制造设备。

  胡锦涛表示,这种情况更加严重,因为ASML拥有大量涉及压印光刻的专利,其中包括光刻技术。

  因此,中国企业不得不依赖相对过时和低效的技术来生产微电子产品,因此其产品往往不如发达国家。

  为了克服垄断,光学和电子学院在2003年发现了一种新的物理现象,并将该物业作为新机器的基础。

  胡锦涛表示,中国目前在新技术方面拥有47项国内专利和4项国际专利。

  “我们不再担心外国的技术封锁,因为我们对这项新技术拥有完全的知识产权。”

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